溅射镀膜机

溅射镀膜机

定义

溅射镀膜机是一种用于薄膜沉积的设备，它利用离子轰击靶材表面来溅射出原子或分子，然后在基底上形成薄膜。

原理

溅射镀膜机的原理如下：

1. 真空环境：将真空室抽至高真空状态，去除残留气体。

2. 电磁场：在真空室中施加电磁场，使靶材成为阴极，基板成为阳极。

3. 离子轰击：向氩气等工作气体施加强电场，使其被电离成离子。这些离子加速并轰击靶材表面。

4. 溅射：离子轰击靶材表面会溅射出原子或分子。这些颗粒被喷射到基底上。

5. 薄膜形成：溅射出的原子或分子在基底表面聚集并形成薄膜。

类型

根据离子源类型，溅射镀膜机可分为两类：

• 直流溅射镀膜机：使用直流电场，相对简单且成本较低。
• 射频溅射镀膜机：使用射频电场，能沉积更致密的薄膜，并能降低薄膜中的内应力。

应用

溅射镀膜广泛应用于各个领域，包括：

• 光学薄膜：抗反射涂层、滤光器、镜子
• 电子器件：半导体、薄膜电容器、电路板
• 机械薄膜：硬质涂层、抗磨损涂层、装饰性涂层
• 医用薄膜：生物相容性涂层、植入物涂层

优点

• 能沉积各种材料，包括金属、合金、陶瓷和聚合物
• 薄膜致密、均匀、粘附性好
• 可控制薄膜厚度和成分
• 尺寸限制小

缺点

• 沉积速率较慢
• 需要高真空环境
• 成本较高