电子束蒸发镀膜机 西安邮电大学

电子束蒸发镀膜机

西安邮电大学

简介

西安邮电大学电子束蒸发镀膜机，又称为电子枪镀膜机，是一种通过电子束轰击靶材，使靶材蒸发并沉积在基材表面形成薄膜的镀膜设备。该设备常用于制备光学、电学、电子等领域中所需的各种薄膜材料。

原理

电子束蒸发镀膜机的工作原理主要分为以下几个步骤：

1. 电子枪发束：电子枪向靶材发射电子束，电子束轰击靶材表面，使靶材原子获得能量。

2. 靶材蒸发：靶材原子在电子束能量作用下克服原子间结合力，蒸发成原子蒸汽。

3. 原子传输：蒸发的原子蒸汽在真空环境中传输，并沉积在基材表面。

4. 成膜：随着原子蒸汽的不断沉积，在基材表面形成薄膜材料。

特点

西安邮电大学电子束蒸发镀膜机具有以下特点：

• 高沉积速率：电子束能量高，靶材蒸发速率快，沉积速率可达数埃/秒。
• 高成膜质量：电子束能量可控，能够获得致密、均匀的薄膜结构。
• 多种靶材选择：可使用多种靶材材料，包括金属、合金、氧化物等。
• 可控膜层结构：通过调节电子束能量、镀膜时间等工艺参数，可以控制薄膜的厚度、结构和性能。
• 高真空环境：在高真空环境中进行镀膜，可以有效减少杂质污染。

应用

西安邮电大学电子束蒸发镀膜机广泛应用于以下领域：

• 光学器件：抗反射薄膜、透射膜、偏振片等。
• 半导体器件：金属电极、二极管、晶体管等。
• 电子元件：电阻器、电容器、电感等。
• 生物传感器：薄膜电极、酶促反应层等。
• 磁性材料：永磁体、磁性传感器等。

技术参数

西安邮电大学电子束蒸发镀膜机技术参数如下：

• 电子束能量：最大10 keV
• 靶材尺寸：最大6英寸
• 真空度：10^-6 Pa
• 沉积速率：0.1-100埃/秒
• 薄膜厚度：可控范围为纳米至微米级