真空镀膜机详细镀膜方法

真空镀膜机的镀膜方法

真空镀膜机是一种将金属和其他材料薄膜沉积在基材表面的设备。镀膜过程在真空环境中进行，以防止杂质和氧气的干扰。

以下是一些常见的真空镀膜方法：

1. 蒸发镀膜

• 原理：将待镀材料加热到汽化点，并通过蒸发将材料沉积在基材表面。
• 优点：可以镀制各种金属、合金和化合物薄膜，薄膜致密、附着力好。
• 缺点：沉积速率较慢，设备成本较高。

2. 溅射镀膜

• 原理：利用惰性气体（如氩气）或反应气体（如氧气）轰击靶材，将靶材上的原子或离子溅射到基材表面。
• 优点：沉积速率快，薄膜均匀性好，可以镀制各种材料，包括金属、合金、化合物和非金属。
• 缺点：薄膜致密性不如蒸发镀膜。

3. 离子束镀膜

• 原理：将气体（如氩气）电离后形成离子束，加速离子束轰击靶材，将靶材上的原子或离子沉积到基材表面。
• 优点：薄膜致密性好，附着力强，可以镀制各种金属、合金和化合物薄膜。
• 缺点：沉积速率慢，设备成本较高。

4. CVD（化学气相沉积）

• 原理：将气态前驱物（如六羰基钼）引入真空室，在前驱物和基材表面发生化学反应，形成薄膜。
• 优点：可以镀制复杂的化合物薄膜，如氧化物、氮化物和碳化物。
• 缺点：沉积速率慢，薄膜生长过程复杂。

5. PVD（物理气相沉积）

• 原理：利用真空放电技术将气体电离并加速到基材表面，从而形成薄膜。
• 优点：沉积速率快，薄膜致密性好，可以镀制各种材料。
• 缺点：设备成本较高，薄膜的晶体结构可能受影响。

镀膜工艺流程

典型的真空镀膜工艺流程包括以下步骤：

1. 基材预处理：清洁基材表面，去除油污、氧化层等杂质。

2. 装载基材：将基材装入真空室。

3. 真空处理：抽真空至所需压力。

4. 镀膜：采用上述方法之一进行镀膜。

5. 卸料：镀膜结束后，将基材从真空室中取出。

应用领域

真空镀膜技术广泛应用于以下领域：

• 光学薄膜：镜子、透镜、棱镜
• 电子器件：电极、导线
• 装饰性镀膜：珠宝、汽车零件
• 机械零件：刀具、轴承
• 生物医疗：人工关节、植入物